刻蚀Shower Head的作用是什么
2025/4/9 14:31:24   来源：    点击：58

Shower Head（淋浴喷头式气体分配器）通常紧贴反应区的上部，并作为气体入口，将反应气体通过其表面的小孔均匀地注入到腔体内。主要作用体现在以下几个方面：

均匀气体分配

作用原理：Shower Head 的设计结构能够将反应气体均匀地分散并喷洒到晶圆表面。它通常具有多个细小的气孔，这些气孔经过精心布局和设计，使得进入反应腔室的气体可以在较大的面积上实现均匀分布。

重要性：在刻蚀过程中，均匀的气体分布至关重要。

如果气体分布不均匀，会导致晶圆不同区域的刻蚀速率不一致，进而影响芯片上电路图案的精度和完整性。例如，在刻蚀微小的晶体管结构时，局部刻蚀速率过快或过慢可能使晶体管的尺寸不符合设计要求，从而影响芯片的性能和功能。

精确控制反应气体流量

作用原理：Shower Head 与气体输送系统相连，可以根据刻蚀工艺的具体需求，精确调节和控制不同反应气体的流量。通过内置的流量调节装置，能够实现对每种气体流量的精细调整。

重要性：不同的刻蚀步骤需要特定比例和流量的反应气体来实现预期的刻蚀效果。

精确控制气体流量有助于维持稳定的刻蚀化学反应过程，确保刻蚀的选择性、速率等关键参数符合工艺规范。比如，在刻蚀二氧化硅层和硅层的选择性刻蚀工艺中，准确控制氟基气体等反应气体的流量，才能保证在刻蚀掉二氧化硅层的同时，尽量少地刻蚀下方的硅层。

促进反应气体与晶圆表面充分接触

作用原理：其特殊的淋浴喷头式结构使得气体以分散的形式喷洒而出，能够更好地覆盖到晶圆表面的各个角落和微观结构区域，增加了反应气体与晶圆表面待刻蚀材料的接触机会。

重要性：充分的气体与晶圆表面接触是保证刻蚀反应高效、均匀进行的前提。只有当反应气体能够充分接触到晶圆表面的每一处需要刻蚀的部位，才能确保整个晶圆表面的刻蚀质量一致性，避免出现局部未刻蚀到位或过度刻蚀的情况，对于制造出高质量、高性能的半导体芯片至关重要。

半导体刻蚀中的 Shower Head 通过均匀分配气体、精确控制流量以及促进气体与晶圆表面充分接触等功能，保障了刻蚀工艺能够精确、稳定且高效地进行，从而为生产出符合要求的半导体芯片奠定基础。

安徽博芯微半导体科技有限公司，为核心组件提供高精度Showerhead服务，产品主要包括Shower head、Face plate、Blocker Plate、Top Plate、Shield、Liner、pumping ring、Edge Ring等半导体设备核心零部件，产品广泛应用于半导体、显示面板等领域，性能卓越，市场认可度高

资料来源：厚纪资本号