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PECVD工艺中喷淋头的核心角色与未来挑战

喷淋头(Showerhead)作为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺中的核心部件,其设计直接决定了薄膜沉积的均匀性、工艺稳定性和设备寿命。本文从喷淋头的核心功能出发,分析其在PECVD工艺中的技术作用,并结合行业趋势探讨未来面临的挑战与解决方案。一、PECVD喷淋头:薄膜沉…

时间:2025-04-17

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半导体设备Showerhead(喷淋头)与薄膜制备技术

Showerhead在薄膜制备中的作用气体均匀分布:在化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等薄膜制备过程中,Showerhead用于将反应气体均匀分布到晶圆表面。其结构设计(如孔径、孔密度、分布方式)直接影响气体的均匀性,进而影响薄膜的厚度均匀性和成分一致性。温度和压力控…

时间:2025-04-15

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国产替代:半导体零部件详解

半导体产业链自主可控逐步向上游推进,零部件预将进入国产替代爆发期。半导体零部件处于芯片制造产业链上游,在半导体设备营业成本中半导体零部件占比近90%,全球半导体零部件市场2022 年约3861 亿元,其中中国大陆市场2022 年为1141 亿元。近年来美国等国家意图限制中国大陆先…

时间:2025-04-14

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刻蚀Shower Head的作用是什么

Shower Head(淋浴喷头式气体分配器)通常紧贴反应区的上部,并作为气体入口,将反应气体通过其表面的小孔均匀地注入到腔体内。主要作用体现在以下几个方面:均匀气体分配作用原理:Shower Head 的设计结构能够将反应气体均匀地分散并喷洒到晶圆表面。它通常具有多个细小的气孔…

时间:2025-04-09

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半导体设备关键零部件全景梳理

半导体设备的升级迭代在很大程度上依赖于精密零部件的技术突破。作为半导体设备的基石,半导体设备零部件支撑设备行业的发展。精密零部件也是半导体设备制造环节中难度较大、技术含量较高的环节。在高技术壁垒下,成为半导体产业中的“卡脖子”环节之一。从供应链角度来看,零…

时间:2025-04-09

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半导体核心零部件-Showerhead(喷淋头/分配盘/匀气盘)

Showerhead,中文名称为喷淋头或者叫气体分配盘或匀气盘,被广泛应用半导体制造过程中的 PVD、CVD、刻蚀等工艺流程中,是各类气体分配过程中的关键零部件。它主要用于将气体均匀地分配到反应腔中,以确保半导体材料在反应过程中能够与气体均匀接触,提高生产效率和产品质量。S…

时间:2025-04-07

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晶圆越做越薄背后

从平面 SoC 到 3D-IC 和先进封装的转变需要更薄的晶圆,以提高性能和降低功率,从而减少信号需要传输的距离和驱动信号所需的能量。对超薄晶圆的需求正在增长。包含 12 个 DRAM 芯片和基础逻辑芯片的 HBM 模块的总厚度仍小于优质硅晶圆的厚度。薄晶圆在组装扇出晶圆级封装和用于…

时间:2025-03-25

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半导体:纳米技术和纳米制

纳米技术是一个高度跨学科的领域,涉及在纳米尺度上精确控制和操纵物质。集成电路(IC)作为已经达到纳米级别的重要技术,对社会生活产生了深远影响。晶体管器件的关键尺寸在过去数十年间不断缩小,如今已经接近10纳米甚至更小。这种技术进步使得每个芯片可以容纳更多的器件,…

时间:2025-03-06

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