在半导体制造中，电感耦合等离子体（ICP）刻蚀工艺与机加工Showerhead（气体分配喷淋头）的设计、生产和加工密切相关。Showerhead作为ICP刻蚀设备的核心部件，直接影响刻蚀的均匀性、精度和工艺稳定性。以下从技术原理、功能关联和工艺要求三方面展开分析：一、ICP刻蚀工艺的核…
时间：2025-11-19
在半导体制造中，Showerhead（气体分配喷淋头）作为薄膜沉积、刻蚀等工艺的核心部件，其性能直接影响晶圆加工的均匀性与良率。由于Showerhead需在高温、腐蚀性气体及真空环境下长期运行，其检测与品控需覆盖尺寸精度、密封性、表面质量及材料稳定性等多维度指标。本文结合行业…
时间：2025-11-19
在半导体制造领域，Showerhead（气体分配喷淋头）作为核心部件，其焊接工艺直接影响气体分布的均匀性、密封性及设备耐久性。由于Showerhead需在高温、腐蚀性气体及真空环境下稳定工作，其焊接技术需满足高精度、低污染、无泄漏等严苛要求。以下结合真空钎焊、真空扩散焊、搅拌…
时间：2025-11-19
在半导体制造领域，Showerhead（喷淋头/气体分配盘）的表面处理工艺对于提升其性能、耐久性和可靠性至关重要。以下是几种关键的表面处理工艺及其作用：一、精密抛光目的：消除微孔加工残留的锥度与毛刺，提高孔壁垂直度和表面质量。工艺方法：采用金刚石磨削等精密抛光技术，对…
时间：2025-11-19
半导体产品制造基本都需要真空环境的原因：1.减少杂质和污染：常温常压下，环境中的灰尘、水汽、氧气等杂质会对半导体芯片制造产生严重影响。例如，金属颗粒混入可能导致电路短路，水汽会影响光刻胶性能，使光刻图案模糊，还会在芯片表面形成氧化层，降低芯片性能和可靠性。在…
时间：2025-11-19
在真空中镀膜是为了减少杂质沉积的干扰，确保膜层纯度，这一需求与生产和加工的Showerhead（喷淋头/气体分配盘）存在紧密关联，具体体现在以下方面：一、真空镀膜的核心作用：减少杂质干扰1.避免氧化与污染半导体制造中，镀膜工艺需在真空环境下进行，因为空气中的氧气、水蒸气…
时间：2025-11-19
在半导体制造领域，Showerhead（喷淋头/气体分配盘）作为气体分配系统的核心部件，其性能对晶圆表面薄膜沉积的均匀性、刻蚀精度及等离子体分布的稳定性具有决定性影响。随着先进制程向3nm及以下节点推进，Showerhead的制造技术正面临前所未有的挑战与机遇。未来，Showerhead机…
时间：2025-11-12
在半导体制造领域，Showerhead（喷淋头/气体分配盘）作为气体分配系统的核心部件，其性能对晶圆表面薄膜沉积的均匀性、刻蚀精度及等离子体分布的稳定性具有决定性影响。随着先进制程向3nm及以下节点推进，对Showerhead的微孔尺寸和表面质量提出了更高要求。在此背景下，原子层…
时间：2025-11-11
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