
FerroTec 安徽2025盛会奏响2025年12月6日,FerroTec(中国)安徽地区年度总结表彰大会于博日产业园启幕,答谢晚宴随后在雅致的天下生肖宴会中心举行。此次大会回溯过往、表彰先进、锚定未来,安徽博芯微(AMTD)作为半导体设备制造核心,以深厚技术积淀与强劲发展态势尽显领军…...

在半导体制造中,电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺与机加工Showerhead(气体分配喷淋头)的设计、生产和加工密切相关。Showerhead作为ICP刻蚀设备的核心部件,直接影响刻蚀的均匀性、精度和工艺稳定性。以下从技术原理、功能关联和工艺要求三方面展开分析:一、ICP刻蚀工艺的核…...

在半导体制造中,Showerhead(气体分配喷淋头)作为薄膜沉积、刻蚀等工艺的核心部件,其性能直接影响晶圆加工的均匀性与良率。由于Showerhead需在高温、腐蚀性气体及真空环境下长期运行,其检测与品控需覆盖尺寸精度、密封性、表面质量及材料稳定性等多维度指标。本文结合行业…...

在半导体制造领域,Showerhead(气体分配喷淋头)作为核心部件,其焊接工艺直接影响气体分布的均匀性、密封性及设备耐久性。由于Showerhead需在高温、腐蚀性气体及真空环境下稳定工作,其焊接技术需满足高精度、低污染、无泄漏等严苛要求。以下结合真空钎焊、真空扩散焊、搅拌…...

在半导体制造领域,Showerhead(喷淋头/气体分配盘)的表面处理工艺对于提升其性能、耐久性和可靠性至关重要。以下是几种关键的表面处理工艺及其作用:一、精密抛光目的:消除微孔加工残留的锥度与毛刺,提高孔壁垂直度和表面质量。工艺方法:采用金刚石磨削等精密抛光技术,对…...

半导体产品制造基本都需要真空环境的原因:1.减少杂质和污染:常温常压下,环境中的灰尘、水汽、氧气等杂质会对半导体芯片制造产生严重影响。例如,金属颗粒混入可能导致电路短路,水汽会影响光刻胶性能,使光刻图案模糊,还会在芯片表面形成氧化层,降低芯片性能和可靠性。在…...

在真空中镀膜是为了减少杂质沉积的干扰,确保膜层纯度,这一需求与生产和加工的Showerhead(喷淋头/气体分配盘)存在紧密关联,具体体现在以下方面:一、真空镀膜的核心作用:减少杂质干扰1.避免氧化与污染半导体制造中,镀膜工艺需在真空环境下进行,因为空气中的氧气、水蒸气…...

在半导体制造领域,Showerhead(喷淋头/气体分配盘)作为气体分配系统的核心部件,其性能对晶圆表面薄膜沉积的均匀性、刻蚀精度及等离子体分布的稳定性具有决定性影响。随着先进制程向3nm及以下节点推进,Showerhead的制造技术正面临前所未有的挑战与机遇。未来,Showerhead机…...
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